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控制加熱
HTX SubliMATE 使用陶瓷加熱器，可快速且穩定地加熱至攝氏 300 度。這使得一系列 MALDI 基質能夠昇華（例如：9AA、CHCA、DAN、DHAP、DHB、NRM 等）。
多種冷卻選項
通用冷卻頂可使用標準冰或乾冰冷卻至 -78 C，以產生尺寸小於 1 微米的超小基質晶體。
高通量均質基質沉積
專利的 Matrix Wafer 設計允許在大面積（最多 4 個載玻片）上實現均勻的基質層塗層。
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